据韩国《朝鲜日报》报道，网传外部三星电子基于GAA晶体管结构的星电性2nm节点良率已超40%。在工艺良率有起色的良率背景下，三星正努力争夺先进制程订单。超正
5月13日消息，客户据韩国《朝鲜日报》报道，展开三星电子基于GAA晶体管结构的评估2nm节点良率已超40%。在工艺良率有起色的网传外部背景下，三星正努力争夺先进制程订单。星电性
目前，良率三星晶圆代工预计将很快进入英伟达GPU和高通移动端AP项目对2nm工艺性能评估的超正最后阶段。若评估顺利通过，客户三星有望在先进制程代工领域分得一杯羹。展开此前，评估三星虽在3nm工艺上率先实现量产，网传外部却因良率问题未能有效吸引大量客户。此次2nm工艺良率的提升，对三星来说至关重要。
据悉，业内普遍认为，半导体工艺良率需超60%才能实现稳定量产。三星在努力提升2nm良率的同时，也在积极与外部客户展开性能评估工作，期望凭借性能优势弥补良率上与竞争对手的差距，扭转在代工业务上的不利局面。
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